1. 上海微电子光刻机技术
先锋微技术拥有的光刻机主要用于模拟芯片的制造，采用的是三十五纳米的工艺，可以制造光电传感器和CMOS传感器等，主要应用于汽车、电力、工业等领域。
2. 上海微电子光刻机研发
上微光刻机就是上海微电子。
上海微电子是国内唯一一家制造光刻机的企业，是全球四家制造光刻机的企业之一，但上海微电子并没有上市。上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
3. 上海微电子生产的光刻机
65nm光刻机属中低端水平。
我国目前能够实现量产芯片光刻机的公司是上海微电子设备系统有限公司。目前能够量产的是90nm的光刻机，65nm的光刻机已经在研发了四五年了，目前尚未处于量产阶段。目前最高端的是荷兰阿斯麦尔13.5nm极紫外光光源的euv光刻机。其余为193nm/248nm/365nm/436nm波长为光源的光刻机，分别属于800nm到22nm制程的光刻机。而65纳米就是193nm波长的浸润式duv光刻机中的一种。相比该机型最小制程的22nm，65nm光刻机属于中等偏低的水平。
4. 上海微电子生产光刻机
士兰微，中国国际。
根据芯思想数据，上海微电子2018年出货大概在50-60台之间。根据中国半导体协会，公司在半导体设备商中排名第5，是唯一上榜的专门研究销售光刻机的厂商。而支撑上海微电子取得上述成绩的因，除了想要实现“用中国的光刻机制造中国芯”的执念之外，当然离不开公司在技术方面坚持不懈的深入研发。
5. 上海微电子技术公司的光刻机
工业能力是一个国家国防实力和经济实力的基础，而光刻机是现代工业体系的关键部分，不过目前荷兰光刻机是最有名的，出口到全球各国，口碑很好。那光刻机是谁发明的？主要用途有哪些呢？
1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片，1960年代，仙童提出CMOSIC制造工艺，第一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
目前，全球最顶尖的光刻机生产商是荷兰ASML、Nikon、Canon和上海微电子（SMEE），其中ASML实力最强，因此全球多数国家都愿意去这家公司进口光刻机。
6. 上海微电子 光刻机
上海微电子28nm光刻机是真的。国产28nm光刻机来了，已完成相关认证，预计年底就能量产并正式投入使用。最近上海微电子的28nm光刻机通过了技术检测和认证，虽然依旧只是DUV水平，与ASML的EUV光刻机相比还有不小的差距。但是这对于国内而言，已经是非常了不起的突破了，28nm光刻机可以满足大部分芯片的生产要求。