1. 5nm光刻技术
我们一般说的芯片14nm、10nm、7nm、5nm，指的是芯片的制程工艺，也就是处理内CPU和GPU表面晶体管门电路的尺寸。
一般来说制程工艺先进，晶体管的体积就越小，那么相同尺寸的芯片表面可以容纳的晶体管数量就越多，性能也就越强。5nm性能更强更快。
2. 5nm工艺光刻机
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。
3. 1nm光刻技术
光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用。
光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。
光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。
光刻是集成电路最重要的加工工艺，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
4. 5nm光刻机技术
这个想法是真的，但是还没实现。
一是华为通过招募光刻机人才意欲打造自研5nm光刻机，前期评估预计两年内投入量产；另一个是华为召集数万人，每天工作12到16个小时，争取两年内实现14nm光刻机。咋一听，真的很鼓舞人心！有心的网友甚至还扒出2016年华为申请的一项名为“一种光刻设备和光刻系统”的PCT专利。这让更多网友相信，华为其实早在2016年就开始研究光刻机了。
5. 5纳米光刻技术
大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
6. 5nm刻光机
世界上最先进的5nm光刻机来自荷兰的ASML，这也是唯一一家可以提供最先进极紫外光刻机的厂商。
这光刻机的单价达到1.6亿欧元一台。
极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
光刻技术是现代集成电路设计上一个最大的瓶颈。现cpu使用的45nm、32nm工艺都是由193nm液浸式光刻系统来实现的，但是因受到波长的影响还在这个技术上有所突破是十分困难的，但是如采用EUV光刻技术就会很好的解决此问题，很可能会使该领域带来一次飞跃。
7. “中科院突破5nm光刻技术”系误读
想要制造顶级的芯片，就必须用到最顶级的光刻机，而如今最顶级的极紫外光刻技术，也只是掌握在少数顶尖科技企业的手中，就比如说荷兰的阿斯麦，中科院所研制出来的五纳米高精度光刻方法，最大的用途是做光掩模，而真正的EUV光刻机，并不仅仅只是这项技术。在如今中国的很多中低端光刻机其实运用到的也是外来的技术，很多装备材料零件都是采购国外的，这样的技术，即使中国还没有攻克难题。
8. 中国五纳米光刻技术取得突破
突破了！
28nm光刻机是真的生产出来了。
目前我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。上海微电子也是在去年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。上海微电子将在今年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。