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倒置金相显微镜多少钱(倒置金相显微镜原理)

来源:www.haichao.net  时间:2023-01-05 19:00   点击:274  编辑:admin   手机版

1. 倒置金相显微镜原理

倒置金相显微镜只配有反射照明系统,它只适合于观察金属材料,而正置金相显微镜可配透射照明系统和反射照明系统,通俗地说就是上下两个光源,可以观察塑料、橡胶、电路板、薄膜、半导体、金属等多种材料,所以它又称为多功能金相显微镜。

所以来说还是正置的好一些。

2. 倒置金相显微镜使用方法

倒置荧光显微镜使用完后,必须要将调节距离归零。下次使用时要重新调整距离。

3. 倒置金相显微镜结构图

(1)准备:将待观察对象置于载物台上。旋转三孔转换器,选择较小的物镜。观察,并调节铰链式双目目镜,舒适为宜。

(2)调节光源:推拉调节镜体下端的亮度调节器至适宜。通过调节聚光镜下面的光栅来调节光源的大小。

(3)调节像距:转三孔转换器,选择合适倍数的物镜;更换并选择合适的目镜;同时调节升降,以消除或减小图像周围的光晕,提高了图像的衬度。

(4)观察:通过目镜进行观察结果;调整载物台,选择观察视野。

4. 倒置式金相显微镜的优点

倒置显微镜产品具有预定心相差环与系统相差环供用户选用,霍夫曼相衬法能看到透明组织浮雕般的图像。还可以加配荧光附件,显微操作仪,摄影系统等附件。随着荧光技术的不断发展,光激发和其操作方法已经日益普及了。倒置显微镜产品具有较高的信噪比,可以有效的检测到微弱的荧光信号。是广大科学研究者观察细胞实验最理想的选择。

倒置显微镜就是指物镜与照明系统颠倒,物镜在下,物体在上来进行观察的光学显微镜。大致可分为生物倒置显微镜、金相倒置显微镜、偏光倒置显微镜、荧光倒置显微镜等。多应用于医疗卫生单位、高等院校、研究所等对微生物、细胞、细菌、组织培养、悬浮提、沉淀物等的观察以及细菌的繁殖分裂等领域。

  倒置显微镜的优点在于容易制样(只需观察面磨平),载物台上方空间大,对于大样品的研究分析有着明显的优势,倒置生物显微镜的应用,对于培养皿中各细胞以及微生物的分裂等有着极其重要的意义。倒置显微镜的自由度大于正置显微镜。

5. 高级倒置金相显微镜

目镜有两个观察孔,再加上一个孔给相机拍照用,就成了三目。

6. 倒置金相显微镜原理图

1、显微镜的成像原理是:显微镜的物镜相当于投影仪的镜头,物体通过物镜成倒立、放大的实像。而目镜相当于普通的放大镜,该实像又通过目镜成正立、放大的虚像。如此一来,经显微镜到人眼的物体都成倒立放大的虚像。

2、上下左右颠倒的原因是:光线被凹面镜反射或透过凸透镜折射后汇合在一起所成的影像,可以显现在屏幕上,叫实像。显微镜的物镜凸透镜。在凸透镜成像中,所成实像都是倒置的

7. 金相显微镜的基本原理

金相显微镜是光学显微镜技术、光电转换技术、计算机图像处理技术完美地结合在一起,发展成为一个高科技产品,它可以很容易地观察金相图像的计算机,和金相地图集,评级,输出图像、印刷等。

因此分析金相显微镜观察检查金属内部的机构结构,它已成为工业生产的重要手段。

8. 金相显微镜的工作原理图

一、实验原理:

金相显微分析是研究金属内部组织最重要的方法之一。用光学显微镜观察和研究金属内部组织的步骤,首先是制备所取试样的表面,然后选用合适的浸蚀剂试样表面,并用金相显微镜观察和研究试样表面组织。

试样表面比较粗糙时,由于对人射光产生漫反射,无法用显微镜观察其内部组织,因此要对试样表面加工,通常采用磨光和抛光的方法从而得到光亮如镜的试样表面。这个表面在显微镜下只能看到白亮的一片而看不到其组织细节,因此必须采用合适的浸蚀剂对试样的表面进行浸蚀,使试样表面有选择性地溶解掉某些部分(如晶界),从而呈现微小的凹凸不平,这些凹凸不平在光学显微镜的景深范围内可以显示出式样的组织形貌、大小和分布。

二、 金相式样的制备方法

金相显微式样的制备包括取样、镶嵌、磨制、抛光、浸蚀等工序。

1) 取样

式样的选取应根据研究的目的,取其具有代表性的部位。待确定好部位,就可以把式样截下,式样的尺寸通常采用直径12~15mm,高12~15mm的圆柱体或边长12~15mm的方形式样。取样方法可用手锯、锯床切割或锤击等方法。

2) 镶嵌

如式样尺寸太小,直接用手来磨制困难时,可把式样镶嵌在低熔点合金或塑料中,以便于式样的磨制和抛光。

3) 磨制

切好或镶好的式样在砂轮机上磨平,尖角要倒圆。然后用2﹟、1?﹟和1﹟等粗砂布磨光,再换400.600.800.1000.1200.1500.2000.2500.3000等金相砂纸逐级细磨,一直磨到W10砂纸方可进行粗抛光和细抛光。

磨制式样时,每换一次磨制步骤(即每换一号砂纸)时,式样磨制方向应转90°。这样才能看出上次磨痕是否磨去。式样在每一号砂布(纸)上磨制时,要沿一个方向磨,切忌来回磨削,而且给式样施加的压力要适当。

4) 抛光

细磨的式样还需进行抛光。抛光的目的是去除细磨时遗留下来的细微磨痕而获得光亮的镜面。式样的抛光是在的抛光机上进行的,转速一般100~150r/min。抛光时在抛光盘盘面上铺有丝绒等织物,并不断滴注抛光液。抛光液是由àl2O3、Cr2O3或MgO等极细粒度的磨料加水而形成的悬浮液,依靠抛光液中极细的抛光粉末与式样磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕。抛光时应使式样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上,并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动。除机械抛光方法外,还有电解抛光、化学抛光等其他抛光方法。

5) 浸蚀

经抛光后的式样还必须经过浸蚀后才能在显微镜下进行观察。浸蚀主要是依靠浸蚀剂对金属的溶解或电化学腐蚀过程,使金属式样表面的晶粒与晶界及各组成相之间呈现轻微的凹凸不平,在显微镜下就可以清楚地观察到式样表面,浸蚀时间要适当,一般式样磨面发暗时就可停止。如果浸蚀不足重复浸蚀。浸蚀完毕后立即用清水冲洗,然后用酒精冲洗,最后用吹风机吹干,式样即可置于金相显微镜上进行观察

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