1. 光刻机使用
光刻机一般是用惰性气体激光。
光刻机通常是用惰性气体产生的准分子激光，准分子激光是一个冷的紫外光，它是准分子产生的激光，就是一种准分子物质。这种物质叫二聚体气体，这种气体在强烈的一些电厂的照射下，它会产生一种紫外光，这种紫外光，叫准分子激光，这种准分子是一种相当不稳定的物质，它稍纵即逝，我们称它为准分子。光子能量波长范围为157－353纳米，寿命为几十毫微秒。阿斯麦尔的EUV光刻机用的是CO2产生激光，再轰击锡滴产生13.5纳米的极紫外光。
2. 光刻机使用原理
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，最常见的是重氮萘醌（DNQ）。
在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。
在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。
这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。
正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
3. 光刻机使用的注意事项
俄罗斯有能力生产工作机，但是光刻机需要投入的研发资金，人力以及经历非常多，所以说对于欧洲联合开发的阿斯迈尔光刻机是属于一个团体式的控股属于美国控股，对于俄罗斯如果独立能够生产光刻机是可以的，但是能够生产高端产品的芯片是不够的。
4. 光刻机使用视频
芯原微不生产光刻机
芯原微是芯原微电子（上海）股份有限公司的简称。
是一家依托自主半导体IP，为客户提供平台化、全方位、一站式芯片定制服务和半导体IP授权服务的企业。
芯原拥有多种芯片定制解决方案，包括高清视频、高清音频及语音、车载娱乐系统处理器、视频监控、物联网连接、数据中心等；此外，芯原还拥有5类自主可控的处理器IP，分别为图形处理器IP、神经网络处理器IP、视频处理器IP、数字信号处理器IP和图像信号处理器IP，以及1,400多个数模混合IP和射频IP。
5. 光刻机使用方法
目前的技术还不能跳过光刻机，硅基芯片必须经过光刻机加工，包括即将突破的炭基芯片，也离不开光刻机，不过可以使用国产的低精度光刻机
6. 光刻机使用环境
需要超洁环境。
光刻机的环境要求是超洁环境。光刻机作为最顶级的大型精密设备，对外部环境要求非常苛刻。光刻机本身是对纳米结构进行加工，而通常一粒细小的灰尘都有一百纳米以上，足够毁掉一颗芯片，所以光刻机要求超洁环境，比外部普通环境洁净一万倍。而且还要恒温恒湿，温度恒定在21℃。