1. 光刻机的价值和意义
光刻机是半导体技术。光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。
2. 光刻机的价值和意义在哪
90纳米光刻机能让中芯国际有价值！90纳米发展到1纳米制程也就靠时间的推移慢慢成长。5纳米制程再往上非常困难，每低一纳米需要更长时间的研究。90纳米发展到7纳米制程比5纳米发展到2纳米要快多了。
低纳米工艺制程就是实现了高效率低功耗体积小而已，而这些基本就是手机和可穿戴设备在用，说白了都是些民用消费品，对于其他的大型设备影响不太。
10纳米以下的光刻机制造需要全球一百多家顶级科技公司支持，它需要的零配件都是顶级的，只有这些顶级公司才能提供，所以才光刻机难造！中国要赶超需要很长时间。
3. 光刻机的前景
非常有前途。
半导体光刻设备是一个高精尖的高科技行业，目前，我们国家在这方面是一个短板，国家也在投入大量的人力，物力，财力，在攻克这一难关，特别是小纳米的半导体芯片，需要高精度的光刻设备，这给科技难关，如果你能攻破的话，那么你不光有非常好的发展前途，而且会受到社会各界以及政府的高度重视。
4. 光刻机最重要的是什么
超大口径光学原件是光刻机的主要零部件。
作为全球最精密科技结晶的euv光刻机来说，其镜头组的重要性不言而喻。光刻机核心零部件的镜头和光源都是来源于欧美国家，其中镜头来德国蔡司，光源美国的cymer。德国蔡司是全球顶级光学镜片的制造商。光刻机镜头的最大难度不在设计，而在于工艺的实现。由于在极紫外波段下光学材料已经无法折射光线，传统的透射式光学元件无法发挥作用，需要用到多层膜反射镜，要求的是高精度与大口径。镜片的高精度要求高质量熔炼，但熔炼中降应力、提纯度、去气泡条纹这些加工过程本身就难以控制。镜面的大口径则给量测与装配工艺以极大挑战。
5. 光刻机的特点
1961年推出第一台光刻机，型号:第一代971型号。
早在1961年，David Mann公司就已经在市场上推出了一台光刻机。这台机器有些瑕疵，但在当时足以用来制造晶体管。使David Mann公司加快发展步伐的不是工程师和学者，而是数十名客户用他们的具体问题促使精密仪器工程师去改进机器。
公司:David Mann（被GCA收购成为其子公司）
价格:30000美金
时间:1961年
型号:第一代971型号，1962年推出了1080型
名称: Photorepeater（重复曝光机）
精度:1微米（1纳米的1千倍）
特点:需要人不断手动操作调节来实现准确定位。
6. 光刻机的主要作用
光刻机突破对于中国来说有重大意义。
首先，光刻机的突破是我国科技突破美国卡脖子的最后一大关。目前美国正在纠集所有的芯片尖端盟友组成芯片联盟，专门卡中国科技发展的脖子。如果中国突破了光刻机技术，那么美国最后一个卡脖子的关键技术就被破解了。
其次光刻机技术是芯片生产的核心技术，突破光刻机技术对我国高科技发展来说具有全面的推动作用，将促进我国在计算机，智能化，通信技术等尖端领域成为世界领先的国家。
另外突破光刻机技术对于我国打破西方垄断芯片和高科技领域具有极其重要的意义。将使得以美国为首的西方国家彻底失去在世界贸易格局中的有利地位，从而推动世界的多极化，将西方彻底推向衰落。