1. 华为极紫外光刻机
没买到光刻机。
首先得说，华为不是芯片制造商，也不是芯片代工厂，所以华为不需要光刻机。华为的海思麒麟是芯片设计公司，设计好的芯片电路图发给像台积电、三星这样的代工厂才能制造出来芯片，而不是华为海思麒麟直接自己生产。所以华为不需要购买光刻机。
2. 光刻机 华为
因为华为没有光刻机，虽然华为很尖端也在很多领域很先进，但华为还没有能力生产光刻机，但华为正在研究石墨芯片只要成功将有望远超荷兰阿斯麦光刻机。
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
中文名
光刻机
外文名
Mask Aligner
别名
掩模对准曝光机
光源波长
350 nm -450 nm
作用
用光制作一个图形
3. 光刻机 极紫外
不用中子射线。因为中子射线具有穿透力，而穿透力产生的折射会浪费大量的能量，致使光刻机效率低下，甚至无法工作，所以不用中子射线。
顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。但稳定的、大功率的极紫外光源很难造，一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛，配合的光学和机械部件又极端精密，所以荷兰的asml公司独家垄断极紫外光刻机，创造了“一台卖一亿美金”的神话。
4. 极紫外光刻工艺
光刻用极紫外光是目前最好的光源。
EUV光刻机光源通常指荷兰阿斯麦尔的13.5纳米极紫外光光源，又称极端紫外线辐射，是指电磁波谱中波长从121 纳米到10 纳米的电磁辐射。自然现象，如太阳日冕等高温天体，可以产生极紫外光；人工方法，包括：等离子体和同步辐射光源等。单个皮秒激光脉冲产生140万亿个光子，成为具有极高的亮度且波长完全可调的极紫外自由电子激光光源。目前来说这是能量最高波长最小的纳米级光源。
5. 华为40nm光刻机
1.数控机床;目前国内的高性能机床基本上都是从德国、美国、日本这些国家进口，高端数控机床自给率不足10%。
2.光刻机,光刻机是制造芯片的重要设备，目前我国有些企业也能生产一些光刻机，但是基本都是90nm以下的中低端光刻机，40nm工艺以上的光刻机仍然依赖进口，特别是7nm的光刻机就算有钱还不一定能成功买到国外的东西。
3.高端手机屏幕，目前全球的高端手机屏幕几乎被韩国的三星+LG以及日本JDI+夏普（鸿海）霸占，虽然我国的京东方、中国电子等企业也能生产一些屏幕，而且掌握了一些核心技术，但仍然不能满足我国对高端屏幕的需求！