1. 荷兰最先进光刻机2纳米
euv目前最低是4纳米。
euv光刻机是荷兰阿斯麦尔公司生产的全球唯一高端光刻机，其生产的设备绝大多数被台积电和三星购得，英特尔有少量几台。所以芯片纳米最低要看台积电和三星这两家的能力。目前，已经宣布量产的最低制程的芯片是4纳米的芯片，分别是台积电代工的联发科天玑9000和三星代工的高通骁龙8 gen 1芯片。
2. 荷兰进口光刻机是多少纳米的制程
中端光刻机能制造14-45纳米芯片。
光刻机按高中低端等级分，高端光刻机为13.5纳米极紫外光光源的euv光刻机，为第五代光源，可以生产14纳米以下制程芯片，这是荷兰阿斯麦尔公司生产的，也是全球唯一高端光刻机制造商。中端光刻机为193纳米深紫外光光源的，为第四代光源，制程为14-45纳米。低端光刻机为45纳米以上，并且光源可能是第四代也可能更老一些。
3. 荷兰光刻机3纳米
两个国家有。
3nm光刻机有两个国家有。其实并没有3nm光刻机，目前全球最高端光刻机只有荷兰阿斯麦尔公司的13.5nm极紫外光光源光刻机，而所谓3nm实际上是三星和台积电两家，这两家是用euv光刻机加上自己的技术，比如多次曝光，才能使13.5nm波长的极紫外光在制程上压缩到3nm。
4. 荷兰的光刻机技术
就如你题目中提到的一样，阿斯迈尔公司是一家荷兰企业，总部设在荷兰埃因霍芬的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备，中国区总部设立在上海市，ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。
5. 荷兰28nm光刻机
理论上可以生产7nm芯片。
国产28nm光刻机可以生产7nm芯片。28nm光刻机也就是duv深紫外光光源波长的光刻机，目前该类型光刻机最高制程就是7nm。能够达到duv光刻机7nm芯片量产的有台积电和三星两家，而中芯国际也能制造7nm芯片，只不过良品率没到量产阶段，其7nm芯片晶体管密度能达到台积电10nm水平。