1. 国产28nm光刻机
中国首台国产28nm光刻机有望年底投入使用
上海微电子的28纳米光刻机已经正式通过了技术认证和检测，有望在年底投入使用，这预示着我们在摆脱外国技术依赖上又前进了一大步。这个消息让无数国人感到沸腾。
相信在不久的未来，中芯国际等半导体行业，飞速发展的背后预示的是中国智造的崛起，这一点体现在各行各业，尤其是手机领域今年的表现就十分亮眼。
2. 人民日报批国产光刻机
确实中芯国际研发的首台。
中国国产的芯片制造技术，仍大幅度落后于国际。由中芯国际研发的光刻机，还处于28nm工艺的水平，和国际主流的7nm工艺，还有很大的差距。预计在今年下半年开始，国际芯片制造将迈入5nm工艺时代。
至于网上流传的中芯国际成功研制7nm光刻机，则没有官方消息的证明。但好消息的是，近年来，中国开始重视芯片制造技术，传闻华为已开始研究和生产光刻机，并且将采用更为先进的技术，在此也是希望华为能再次成功。
3. 中国光刻机28nm已成功
理论上可以生产7nm芯片。
国产28nm光刻机可以生产7nm芯片。28nm光刻机也就是duv深紫外光光源波长的光刻机，目前该类型光刻机最高制程就是7nm。能够达到duv光刻机7nm芯片量产的有台积电和三星两家，而中芯国际也能制造7nm芯片，只不过良品率没到量产阶段，其7nm芯片晶体管密度能达到台积电10nm水平。
4. 国产28nm的光刻机验收没通过
1.双工件台华卓精科自2012年成立，用了10年的时间，在双工件台技术方面，取得了重大突破。2016年，华卓精科与清华大学共同研制出两套光刻机双工件台掩膜台系统α样机，并成功通过验收。2020年4月，华卓精科向上海微电子发货首台DWS双工件台，应用制程达到65nm；2021年6月，完成28nm制程ArFi光刻机的DWSi系列双工件台的详细设计，已在样机制造集成调试阶段。这项技术的重要性，不言而喻，加上华卓精科全世界只有两家拥有该技术。因此，攻破双工件台技术的壁垒，不仅打破了国外的技术垄断，更为国产光刻机的研发提供了技术保证。
2.光源系统技术国内研究光刻机的光源系统技术，属北京科益虹源最为成熟，也成功掌握了193nm ArF准分子激光器制造，可用于28nmDUV光刻机上。
5. 中国微电子28nm光刻机
有的
上海微电子之前技术最先进的光刻机是90nm，且技术一直停留在这个等级上，由于光刻机是半导体皇冠上的明珠，现在没有任何一个国家可以独立制造先进的光刻机，我国受制于多方面的技术落后，想要在短时间内自产先进的光刻机是非常不容易的。在前年，中兴与华为的事件相继爆发之后，国家开始整合力量投入到光刻机的研发之中。
在多方面的共同努力下，上海微电子公布，自己的28nm光刻机可以在明年投入量产，28nm的技术相当于国外15年前的技术，技术相对于国外还是相当的落后，但是对我们已经是非常大的进步了，即使是国外过渡到28nm也是耗费了相当大的资源。
6. 国产28nm光刻机最新进展2022
目前未知。
28纳米光刻机应该指的是上海微电子的28纳米duv光刻机。该光刻机去年通过技术检测和验证，不过具体量产时间目前未知，上海微电子方面也没有具体订单宣布。
7. 国产14nm光刻机
进口荷兰ASML公司的。
中芯国际14纳米光刻机不是国产的。而是进口ASML公司的DUV光刻机。据报道称这条14纳米制程工艺的生产线在2019年第三季度实现了量产，之后中芯国际南方厂将还建成两条月产能均为3.5万片的先进集成电路生产线。
有消息称中芯国际14nm的良率高达95%，已追平台积电同等工艺。
分析人士认为中芯国际状态回到被美拉黑前，基本可以完成产能扩张。