光刻机能做到几纳米(最先进光刻机多少纳米)

1. 最先进光刻机多少纳米

光刻机极限是1纳米。

现有芯片制造的原材料是硅，也就是我们常说的硅芯片。一块非常小的芯片实际上整合了数以亿计的晶体管，每个晶体可看作是一个可控的电子开关，晶体管由源极、漏极和位于他们之间的栅极所组成，电流从源极流入漏极，栅极则起到控制电流通断的作用，从而产生0 1数字信号，在目前的芯片中，连接晶体管源极和漏极的是硅元素。

然而随着晶体管尺寸的不断缩小（目前已到5nm），源极和栅极间的沟道也在不断缩短，当沟道缩短到一定程度的时候，量子隧穿效应就会变得极为容易，换言之，就算是没有加电压，源极和漏极都可以认为是互通的，那么晶体管就失去了本身开关的作用，因此也没法实现逻辑电路。

2. 中科院研发成功2nm光刻机

中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！

3. 中国首台5纳米光刻机

不能生产5纳米芯片。

div光刻机一般指的是以193纳米深紫外光为光源的浸润式光刻机，属于第四代光刻机。其加工范围大致为22-193纳米，22纳米以上为euv光刻机加工。但随着光刻机应用技术的进步，duv光刻机目前在14纳米工艺制程已经比较成熟，甚至可以生产趋近于7纳米的芯片，当然良品率非常低，目前无法商用生产。所以duv光刻机不可以生产5纳米芯片。

4. 最先进的光刻机多少钱

目前最先进的光刻机是由荷兰阿斯麦公司生产的七纳米光刻机，但是阿斯麦公司的七纳米光刻机非常珍贵，很难购买。

5. 中国最先进的光刻机

不行。

光刻机的技术很先进，中国目前也只能生产90nm的光刻机，而且光刻机的利润基本都在最先进的企业。

越南目前没有能力制造商用光刻机，只能在实验室里面研究。